Очистка и отжиг, приемлемые для условий UHV

Очистка в чистом помещении

Очистка в моечной установке

Очистка в чистом помещении
Очистка в чистом помещении

Очистка в чистом помещении

Мы  владеем  специальными знаниями и сответствующим  технологическим оборудованием для экономичной очистки вакуумных компонентов с достижением уникальных показателей по остаточному газовыделению, сложности поверхности и малым остаточным количеством частиц. Наши процессы оптимированы так , что они удовлетворяют требованиям оптической промышленности и технологиям, применяемым в области  ускорителей частиц. Процессы очистки и применяемые при этом средства подбираются специально в зависимости от  используемых материалов и конструкций.

Полная шестиступенчатая очистка проводится в чистом помещении класса
ISO 7, чем обеспечивается очень низкий уровень контаминации. Кроме того, все компоненты, предназначенные для обработки в чистом помещении, проходят процесс предварительной очистки.

До начала процесса очистки, необходимо проанализировать весь путь изготовления оборудования. При очень чуствительных материалах и сложных конструкциях крайне важно предотвратить загрязнение ещё в процессе производства.

Все этапы очистки сопровождаются контролем качества воды (удельной проводимости, показателя pH), причём все показатели документируются в течение всего процесса. Все подводы воды к очищающему комплексу изготовлены из материалов, не содержащих Zn, Sn, In, Pb и Si.

Отжиг в вакуумных печах

Отжиг в вакуумных печахДля улучшения  показателей остаточного газовыделения ,вакуумные компоненты могут дополнительно  подвергатся отжигу в условиях вакуума (10-5 mbar) до температуры максимально 300°C. Благодаря этому показатели остаточных газов уменьшаются  для легированной стали  до 2 • 10-10 mbar l/s*cm-2 для воды, до 2 • 10-12 mbar l/s*cm-2 для легколетучих органических соединений и до 1,5 • 10-13 mbar l/s*cm-2 для малолетучих органических соединений.

Процесс отжига может контролироваться с помощью масс-спектрометрии с одновременным протоколированием  полученнных результатов.

Вы здесь: Home Продукты Вакумные камеры и специальные вакуумные компоненты Очистка и отжиг, приемлемые для условий UHV